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第三代半導(dǎo)體材料面臨的發(fā)展機(jī)遇與挑戰(zhàn)

日期: 2015-05-14 來(lái)源:中國(guó)半導(dǎo)體照明網(wǎng)

  近年來(lái),隨著半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)的迅猛發(fā)展以及LED技術(shù)及產(chǎn)品的廣泛應(yīng)用,支撐LED光電器件的核心材料氮化鎵(GaN)以及碳化硅(SiC)等寬禁帶化合物為代表的第三代半導(dǎo)體材料技術(shù)及應(yīng)用正在成為全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)新的戰(zhàn)略高地。
 
  作為北京全國(guó)科技創(chuàng)新建設(shè)、京津冀協(xié)同創(chuàng)新合作的一項(xiàng)重要工作,近日,在京“北京市科委與順義區(qū)政府共同推進(jìn)全國(guó)科技創(chuàng)新中心建設(shè)工作會(huì)”在北京市科委召開(kāi)。北京市科委、順義區(qū)政府以及國(guó)家半導(dǎo)體照明工程研發(fā)及產(chǎn)業(yè)聯(lián)盟共同簽署了《北京第三代半導(dǎo)體材料及應(yīng)用聯(lián)合創(chuàng)新基地建設(shè)戰(zhàn)略合作協(xié)議》;聯(lián)合創(chuàng)新基地的運(yùn)營(yíng)主體——北京國(guó)聯(lián)萬(wàn)眾半導(dǎo)體科技創(chuàng)新中心與天津半導(dǎo)體光源系統(tǒng)產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟、中國(guó)電谷(河北)第三代半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新戰(zhàn)略聯(lián)盟三方簽署了《第三代半導(dǎo)體材料及應(yīng)用聯(lián)合創(chuàng)新基地“京津冀”共建合作協(xié)議》。
 
  為此,記者查閱了《半導(dǎo)體照明》關(guān)于第三代半導(dǎo)體材料的文章,發(fā)現(xiàn)在2013年第11期《半導(dǎo)體照明》特別策劃中一篇南京大學(xué)電子科學(xué)與工程學(xué)院教授、 中國(guó)科學(xué)院院士鄭有炓為本刊撰寫(xiě)的《第三代半導(dǎo)體材料面臨的發(fā)展機(jī)遇與挑戰(zhàn)》文章,雖然是鄭有炓院士2013年所寫(xiě),但從今天看來(lái),該文的前瞻性和戰(zhàn)略性分析仍值得我們細(xì)細(xì)品讀。鑒于本網(wǎng)以前未曾公開(kāi)發(fā)布,今特全文刊發(fā)希望能對(duì)業(yè)界有個(gè)參考。全文如下:
 
  一、前言
 
  1993年,第一只高亮度GaN基藍(lán)光LED誕生,實(shí)現(xiàn)了人們長(zhǎng)期以來(lái)立足寬帶隙半導(dǎo)體材料發(fā)展高效藍(lán)光發(fā)射的愿望,展現(xiàn)寬帶隙半導(dǎo)體材料具有極其重要的實(shí)際應(yīng)用前景,隨即引發(fā)以Ⅲ族氮化物為代表的寬禁帶半導(dǎo)體材料的全球性研發(fā)熱潮。人們期望利用寬帶隙材料的特點(diǎn),創(chuàng)新開(kāi)拓時(shí)代需求的新技術(shù)。由于這類(lèi)寬帶隙材料功能不同于第一代鍺、硅元素半導(dǎo)體和第二代以GaAs、InP為代表的化合物半導(dǎo)體,所以被稱(chēng)為“第三代半導(dǎo)體材料”(third-generation semiconductors)。當(dāng)前人們主要關(guān)注的寬帶隙半導(dǎo)體材料包括Ⅲ族氮化物(InN,GaN,AlN及其合金)、Ⅱ-Ⅵ族化合物(ZnO,ZnSe及其合金)和Ⅳ族化合物SiC與金剛石等三類(lèi)材料。經(jīng)過(guò)近20年的發(fā)展,以GaN,SiC為代表的新興寬帶隙材料已展現(xiàn)出極其重要的戰(zhàn)略性應(yīng)用價(jià)值,有望突破第一、二代半導(dǎo)體材料應(yīng)用技術(shù)的發(fā)展瓶頸,創(chuàng)新開(kāi)拓時(shí)代需求的新技術(shù)領(lǐng)域,不僅在信息領(lǐng)域而且進(jìn)入到能源領(lǐng)域也發(fā)揮極為重要的作用。此外,處于探索發(fā)展階段的ZnO基材料具有潛在的應(yīng)用優(yōu)勢(shì):基于巨大的激子結(jié)合能(ZnO為
 
  60meV,GaN為21meV)和相應(yīng)高效率激子輻射過(guò)程,可望發(fā)展高熱穩(wěn)定性、低閾值的激子基ZnO基短波長(zhǎng)激光器,預(yù)計(jì)工作溫度可高達(dá)550K。ZnO還具有比Si、GaAs更優(yōu)越的抗輻射性能,可用于開(kāi)發(fā)具有極強(qiáng)抗輻射能力的太空紫外探測(cè)器。還有,金剛石薄膜半導(dǎo)體材料,從理論上講,具有比其他類(lèi)型寬帶隙半導(dǎo)體更為優(yōu)越的電子特性:很寬的帶隙(≈5.5eV)、非常高的熱導(dǎo)率[達(dá)20W/(cm·K)]、極高的臨界擊穿電場(chǎng)(107V/cm)、非常高的電子飽和漂移速度和載流子遷移率、很小的介電常數(shù)(為已知半導(dǎo)體中最小值)和化學(xué)惰性以及高度抗輻射性能,應(yīng)該是發(fā)展高溫、高功率、高頻電子器件的最理想材料。但金剛石薄膜材料制備技術(shù)難度大,還有很長(zhǎng)的路要走。
 
  第三代半導(dǎo)體材料還屬發(fā)展中的新興寬帶隙半導(dǎo)體材料。例如,近期興起的一種新型寬禁帶半導(dǎo)體材料--銦鎵鋅氧化物(即InGaZnO合金,簡(jiǎn)稱(chēng)IGZO),受到人們極大的關(guān)注,IGZO-TFT 背板技術(shù)有望引領(lǐng)LED背光的液晶顯示技術(shù),帶來(lái)一場(chǎng)新變革。
 
  二、機(jī)遇與挑戰(zhàn)
 
  社會(huì)需求是驅(qū)動(dòng)新材料、新技術(shù)發(fā)展的原動(dòng)力。第一代半導(dǎo)體材料是在20世紀(jì)40~50年代,第二代半導(dǎo)體材料是在20世紀(jì)60~70年代分別在不同歷史背景社會(huì)需求驅(qū)動(dòng)下形成、發(fā)展起來(lái)的。當(dāng)代社會(huì)發(fā)展需求為第三代半導(dǎo)體材料帶來(lái)了新的發(fā)展機(jī)遇,同時(shí)也對(duì)新興的第三代半導(dǎo)體材料提出了嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。半個(gè)多世紀(jì)來(lái),第一、第二代半導(dǎo)體科學(xué)技術(shù)已創(chuàng)建歷史輝煌,促進(jìn)了20世紀(jì)信息技術(shù)革命,推動(dòng)了科學(xué)技術(shù)進(jìn)步、社會(huì)產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)變革,深入到社會(huì)各方面、各領(lǐng)域,深入到每個(gè)家庭,從根本上改變了社會(huì)生產(chǎn)方式和人們的生活方式,給整個(gè)社會(huì)帶來(lái)了不可估量的影響。但是,基于傳統(tǒng)半導(dǎo)體材料的信息電子、電力技術(shù)的發(fā)展正逐漸趨于逼近“材料物理極限”,難于滿(mǎn)足新時(shí)代、新環(huán)境、新需求。例如,面對(duì)節(jié)能減排、維持世界可持續(xù)發(fā)展的全球性需求,發(fā)展高能效電-光、光-電和電-電能量轉(zhuǎn)換刻不容緩;“大數(shù)據(jù)時(shí)代”信息技術(shù);現(xiàn)代空間技術(shù)、國(guó)防技術(shù);極端條件、惡劣環(huán)境電子技術(shù)和傳感技術(shù);現(xiàn)代大型牽引電力工程;綠色可再生能源的高效電力轉(zhuǎn)換等等都提出了更高要求。第三代半導(dǎo)體材料所具有的獨(dú)特性能,有望在這些領(lǐng)域突破傳統(tǒng)半導(dǎo)體技術(shù)的發(fā)展瓶頸,開(kāi)拓新技術(shù)應(yīng)用, 包括諸如基于第三代半導(dǎo)體材料的LED、LD發(fā)光技術(shù)、功率電子技術(shù)、微波功率技術(shù)、TFT技術(shù)、紫外探測(cè)技術(shù)和 MEMS與傳感技術(shù)等等,與第一代、第二代半導(dǎo)體技術(shù)互補(bǔ),對(duì)本世紀(jì)社會(huì)發(fā)展發(fā)揮重要的推動(dòng)作用。
 
  Ⅲ族氮化物L(fēng)ED發(fā)光技術(shù)、寬帶隙半導(dǎo)體功率電子技術(shù)和近年興起的IGZO氧化物半導(dǎo)體TFT技術(shù)是應(yīng)對(duì)當(dāng)前新時(shí)代、新環(huán)境、新需求的第三代半導(dǎo)體材料應(yīng)用的熱點(diǎn)領(lǐng)域。
 
  (一)Ⅲ族氮化物L(fēng)ED發(fā)光技術(shù)--愈益展現(xiàn)廣闊發(fā)展空間
 
  Ⅲ族氮化物半導(dǎo)體(III-nitrides)是由GaN、AlN和InN及其合金組成的材料體系,具有獨(dú)特的材料優(yōu)勢(shì):能隙極其寬廣(0.7eV~6.2 eV),覆蓋了Ge、Si、GaAs、InP 等傳統(tǒng)材料的能隙范圍;光學(xué)窗口(1.77μm~0.20μm)覆蓋從近紅外-深紫外的寬廣光譜范圍,包括準(zhǔn)太陽(yáng)光光譜響應(yīng)窗口;GaN、AlN和InN三基質(zhì)材料體系全組分直接能隙,輻射復(fù)合動(dòng)量守恒,輻射效率高;優(yōu)異的物理、化學(xué)穩(wěn)定性,耐高溫、抗腐蝕、抗輻照。因此,Ⅲ族氮化物是實(shí)現(xiàn)高效光發(fā)射的理想材料。
 
  1993年,日亞化學(xué)工業(yè)社中村修二推出世界上第一只高亮度GaN基藍(lán)光LED,解決了自1962年LED問(wèn)世以來(lái)高效藍(lán)光缺失的難題,導(dǎo)致RGB大屏幕平板全色顯示的實(shí)現(xiàn),引領(lǐng)信息顯示技術(shù)的大變革,更為重要的是進(jìn)而引發(fā)了現(xiàn)代照明技術(shù)革命,以高效、綠色、智能照明為特色,開(kāi)辟了固態(tài)照明新紀(jì)元。作為高效電-光能量轉(zhuǎn)換技術(shù),順應(yīng)全球節(jié)能減排的時(shí)代需求,使半導(dǎo)體技術(shù)從“信息領(lǐng)域”跨進(jìn)“能源領(lǐng)域”,成為節(jié)能減排的有效舉措,深受世界各國(guó)政府的高度關(guān)注。“傳統(tǒng)照明”占據(jù)了巨額能源消耗,照明效率的微細(xì)增加就可節(jié)省巨額能源。國(guó)際上“照明”耗能約占總電功率的20%,目前我國(guó)大陸地區(qū)占總電功率的12%~13%,預(yù)計(jì)到2020年將占19%。LED照明較傳統(tǒng)照明能效有望提高50%~70%,節(jié)能效果極其可觀。例如,2008年全球436臺(tái)核電機(jī)組運(yùn)行,占總發(fā)電量14%,2008年我國(guó)11臺(tái)核電上網(wǎng)發(fā)電量692億千瓦時(shí),占全國(guó)總發(fā)電量2%??梢?jiàn),節(jié)約照明能耗具有重要意義。因此,LED照明技術(shù)受到世界各國(guó)政府重視,在政策激勵(lì)和扶持下,已取得高速發(fā)展,半導(dǎo)體照明作為戰(zhàn)略性新興產(chǎn)業(yè)得到了蓬勃發(fā)展,已較好實(shí)現(xiàn)“一代材料”向“一代技術(shù)”再向 “一代產(chǎn)業(yè)”的轉(zhuǎn)移。2012年我國(guó)大陸地區(qū)半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)達(dá)1920億元(其中上游外延芯片80億元、中游封裝320億元、下游應(yīng)用1520億元)。而2012年我國(guó)大陸地區(qū)集成電路產(chǎn)業(yè)銷(xiāo)售總額為2158.5億元,可見(jiàn)我國(guó)半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)發(fā)展是多么迅速。
 
  半導(dǎo)體照明技術(shù)雖然已取得長(zhǎng)足進(jìn)步,但如何充分發(fā)揮LED照明高效、綠色、智能化的三大特色,還有很大的提升、發(fā)展空間。歸納起來(lái)主要是如何實(shí)現(xiàn)高能效照明、人性化照明、低成本的照明和智能化的照明,尤其要強(qiáng)調(diào)的是降低成本。半導(dǎo)體照明惠及全民,是人們的日常生活用品,必須價(jià)廉物美,提高品質(zhì)降低成本是永遠(yuǎn)追求的目標(biāo)。LED芯片在半導(dǎo)體照明產(chǎn)品成本中所占的比例過(guò)去長(zhǎng)期居高不下,近年來(lái)隨著LED技術(shù)的進(jìn)步,目前芯片價(jià)格已經(jīng)有很大幅度的下降;但半導(dǎo)體照明產(chǎn)品是一個(gè)照明系統(tǒng),其成本不僅僅取決于LED芯片,還包括照明系統(tǒng)的系列構(gòu)件、部件成本。因此,降低照明系統(tǒng)構(gòu)件、部件成本將日益凸顯重要。半導(dǎo)體照明智能化是繼高能效發(fā)光之后所必須追求實(shí)現(xiàn)的另一重要目標(biāo)。智能化照明將充分發(fā)揮LED電子-空穴復(fù)合物理發(fā)光的特點(diǎn),引領(lǐng)實(shí)現(xiàn)照明數(shù)字化新時(shí)代,順應(yīng)新時(shí)代照明的需求,并進(jìn)一步實(shí)現(xiàn)二次節(jié)能功能,是LED 照明的發(fā)展方向。半導(dǎo)體照明智能化需要微電子技術(shù)的支持,需要更多的企業(yè)和技術(shù)參與,實(shí)現(xiàn)微電子技術(shù)、傳感技術(shù)與LED發(fā)光技術(shù)相融合,從而也帶動(dòng)微電子技術(shù)、傳感技術(shù)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。
 
  半導(dǎo)體照明的重要性日益被人共識(shí),在2013年1月19日發(fā)布的防治汞污染的國(guó)際公約中,各國(guó)政府同意在2020年之前禁止一系列含汞產(chǎn)品的生產(chǎn)和貿(mào)易,包括含汞的電池、開(kāi)關(guān)、節(jié)能燈、肥皂以及化妝品等。這為L(zhǎng)ED照明產(chǎn)業(yè)發(fā)展帶來(lái)新機(jī)遇,更加有力地推動(dòng)LED照明成為整個(gè)照明發(fā)展的趨勢(shì)。因此,從產(chǎn)業(yè)角度來(lái)看,應(yīng)用又將成為驅(qū)動(dòng)半導(dǎo)體照明產(chǎn)業(yè)發(fā)展的新動(dòng)力,照明終端產(chǎn)品將會(huì)強(qiáng)勢(shì)發(fā)展,引領(lǐng)傳統(tǒng)照明產(chǎn)業(yè)實(shí)現(xiàn)轉(zhuǎn)型升級(jí)。目前半導(dǎo)體照明在整個(gè)照明產(chǎn)業(yè)中所占的比例僅占6%左右,因此,從照明產(chǎn)業(yè)角度尚處于發(fā)展初期,具有十分巨大的市場(chǎng)前景。
 
  LED發(fā)光技術(shù)的進(jìn)步現(xiàn)已突破傳統(tǒng)的照明概念,并已開(kāi)拓、發(fā)展LED發(fā)光新技術(shù)領(lǐng)域。沿長(zhǎng)波方向,已從藍(lán)光拓寬到綠光、黃光、紅光,發(fā)展“超越照明”,開(kāi)拓在生物、農(nóng)業(yè)、醫(yī)療、保健、航空、航天和通信等領(lǐng)域應(yīng)用;沿短波方向,現(xiàn)已發(fā)展高效節(jié)能、環(huán)境友好、智能化的“紫光光源”,期望逐步取代電真空紫外光源,引領(lǐng)紫外技術(shù)的變革,開(kāi)拓紫光應(yīng)用廣闊領(lǐng)域。UVA-LED(315~400nm)作為紫外固化光源(UV curing technology),被用于光敏材料的光固化、紫外LED印刷機(jī)、數(shù)字噴涂打印等領(lǐng)域;UVB-LED(280~315nm)用于醫(yī)學(xué)理療,熒光分析,藥物研發(fā)等領(lǐng)域;UVC-LED(180~280nm)作為殺菌技術(shù)(germicidal technology),被用于空氣和水凈化、殺菌和化學(xué)/生物檢測(cè) 。
 
  總之,以藍(lán)光LED為先導(dǎo)發(fā)展起來(lái)的Ⅲ族氮化物L(fēng)ED發(fā)光技術(shù),愈益展現(xiàn)廣闊發(fā)展空間。藍(lán)光LED引發(fā)的半導(dǎo)體照明技術(shù)是Ⅲ族氮化物、也是第三代半導(dǎo)體材料應(yīng)用發(fā)展最快、進(jìn)展最大、最具發(fā)展前景的創(chuàng)新技術(shù)。由半導(dǎo)體照明引領(lǐng)的現(xiàn)代照明技術(shù)的革命,內(nèi)涵極其深遠(yuǎn),它不是簡(jiǎn)單地替代“舊電光源”,其意義將“與時(shí)俱進(jìn)”,將使傳統(tǒng)照明技術(shù)實(shí)現(xiàn)超越發(fā)展,對(duì)社會(huì)技術(shù)進(jìn)步、經(jīng)濟(jì)發(fā)展發(fā)揮重大貢獻(xiàn)。
 
 ?。ǘ拵栋雽?dǎo)體功率電子技術(shù)--將突破Si材料極限,開(kāi)辟新一代功率電子技術(shù)
 
  在現(xiàn)代社會(huì)中,電能轉(zhuǎn)化無(wú)所不在,無(wú)時(shí)不有。功率電子器件(power devices)是功率電子系統(tǒng)電能轉(zhuǎn)換的核心部件,器件性能對(duì)功率電子系統(tǒng)的能耗、體積與重量大小、成本高低和可靠性都起著決定性作用。對(duì)于理想功率電子器件的要求是:關(guān)閉狀態(tài)時(shí)能承受高電壓;導(dǎo)通狀態(tài)時(shí)具有高的電流密度和低的導(dǎo)通壓降;開(kāi)關(guān)時(shí)間短,能承受高的dI/dt和dV/dt,低的開(kāi)關(guān)損耗。Si功率電子器件一直是功率電子技術(shù)的主流技術(shù),半個(gè)多世紀(jì)來(lái),Si器件結(jié)構(gòu)不斷更新?lián)Q代,器件性能不斷得到改善和提高,滿(mǎn)足了科學(xué)技術(shù)和工業(yè)社會(huì)發(fā)展的需求。今天,信息社會(huì)高度發(fā)展,高新技術(shù)日新月異,對(duì)功率電子技術(shù)提出了更高要求,不僅迫切要求進(jìn)一步提高電-電轉(zhuǎn)換能效,而且迫切提出功率大、電流強(qiáng)、頻率高、功耗低和高溫度極限等新要求。
 
  大數(shù)據(jù)時(shí)代引領(lǐng)的變革,為功率電子技術(shù)發(fā)展帶來(lái)良好發(fā)展機(jī)遇,同時(shí)也提出了更高的要求,面臨嚴(yán)峻的挑戰(zhàn)。近年來(lái),移動(dòng)互聯(lián)網(wǎng)和物聯(lián)網(wǎng)的蓬勃發(fā)展,實(shí)現(xiàn)了人、機(jī)、物三元世界的高度融合,導(dǎo)致社會(huì)信息數(shù)據(jù)爆炸式增長(zhǎng),紐約時(shí)報(bào)2012年2月13 日網(wǎng)站刊載文章,提出大數(shù)據(jù)時(shí)代降臨,信息技術(shù)正進(jìn)入“大數(shù)據(jù)時(shí)代”(age of big data)。“大數(shù)據(jù)帶來(lái)的信息風(fēng)暴正在變革我們的生活、工作和思維,大數(shù)據(jù)開(kāi)啟了一次重大的時(shí)代轉(zhuǎn)型:思維變革、商業(yè)變革和管理變革”。(維克托·邁爾·舍恩伯格2010年在《經(jīng)濟(jì)學(xué)人》所發(fā)文)。
 
  大數(shù)據(jù)將為人們認(rèn)識(shí)世界和改造世界提供新的強(qiáng)有力工具,能夠更加容易地把握事物規(guī)律,更準(zhǔn)確地預(yù)測(cè)未來(lái),而非靠經(jīng)驗(yàn)和自覺(jué)。2011年,全球被復(fù)制和創(chuàng)建的數(shù)據(jù)量為1.8ZB(Z=1021),超過(guò)人類(lèi)有史以來(lái)所有印刷材料的數(shù)據(jù)總量(200 PB,P=1015)。如果把1.8ZB的數(shù)據(jù)量刻錄存入普通DVD光盤(pán),光盤(pán)的高度將等同于從地球到月球的一個(gè)半來(lái)回,也就是大約72萬(wàn)英里(=115.2萬(wàn)公里)。預(yù)測(cè)全球數(shù)據(jù)量大約每?jī)赡攴环?015年將達(dá)到8ZB,到2020年將達(dá)到35ZB。大數(shù)據(jù)時(shí)代既為信息技術(shù)帶來(lái)新的發(fā)展機(jī)遇,同時(shí)也提出新的挑戰(zhàn)。例如,需要巨大功耗支撐大數(shù)據(jù)時(shí)代超海量信息運(yùn)轉(zhuǎn),特別是數(shù)據(jù)中心需花費(fèi)巨大功耗。數(shù)據(jù)中心用電和制冷費(fèi)用正在以硬件費(fèi)用8倍的速度增長(zhǎng)。數(shù)據(jù)中心已經(jīng)從幾臺(tái)大型計(jì)算機(jī)的普通機(jī)房發(fā)展至數(shù)百上千臺(tái)服務(wù)器的高密度計(jì)算中心,它需要相當(dāng)于一個(gè)小城鎮(zhèn)的供電量。計(jì)算機(jī)服務(wù)器需要消耗巨大的能量來(lái)支撐整個(gè)互聯(lián)網(wǎng)的基礎(chǔ)設(shè)施,例如:2008年谷歌(Google)服務(wù)器系統(tǒng)耗電量接近1000MW ;同年“中移”等三大運(yùn)營(yíng)商耗電量為231億度,相當(dāng)于二氧化碳排放量2144萬(wàn)噸,其中基站用空調(diào)年耗電量達(dá)70億度,相當(dāng)于二氧化碳排放量750.67萬(wàn)噸。據(jù)統(tǒng)計(jì),2008年全球用于無(wú)線信息系統(tǒng)的能源消耗占全球電
 
  能總消耗的3%,信息傳輸量每5年就將增長(zhǎng)10倍,這意味著以現(xiàn)有的技術(shù),5年后用于各種數(shù)據(jù)系統(tǒng)的能耗將相當(dāng)于目前全球電能消耗的30% ;因此,能耗將成為困擾未來(lái)信息技術(shù)可持續(xù)發(fā)展的主要挑戰(zhàn),降低能耗是互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)可持續(xù)發(fā)展面臨的最大挑戰(zhàn)。
 
  此外,當(dāng)前正在興起的大功率動(dòng)力牽引裝置(如高鐵、電動(dòng)車(chē)等)、航空航天設(shè)備和國(guó)防軍事裝備等對(duì)功率電子技術(shù)有更苛刻的要求,需要高能效的電-電轉(zhuǎn)換、特高電壓、特大電流的功率電子技術(shù)。
 
  另一方面,功率電子裝備輕量化、小型化,是目前高新技術(shù)發(fā)展的必然趨勢(shì)。這就要求高能效電功率處理能力并提高功率器件開(kāi)關(guān)速度,例如,開(kāi)關(guān)電源(switching mode powersupplies,SMPS)。功率電子器件是“開(kāi)關(guān)電源”的核心部件,在開(kāi)關(guān)電源中通過(guò)控制電路對(duì)輸入電壓進(jìn)行脈沖調(diào)制,實(shí)現(xiàn)DC/AC或DC/DC電壓變換以及輸出電壓可調(diào)和自動(dòng)穩(wěn)壓,為現(xiàn)代用電系統(tǒng)提供高效電源。
 
  因?yàn)镾i功率電子技術(shù)性能的提升已逐漸接近“硅材料極限”,Si功率電子技術(shù)很難滿(mǎn)足如上所述新時(shí)代和新環(huán)境的新要求。發(fā)展新一代功率電子技術(shù)--第三代半導(dǎo)體功率電子技術(shù),或稱(chēng)作“寬帶隙功率電子技術(shù)”,有望突破“硅材料極限”。第三代半導(dǎo)體材料SiC、GaN與Si相比,具有寬帶隙、高飽和電子漂移速度、高臨界擊穿電場(chǎng)、低介電常數(shù)和高熱導(dǎo)率等特性,是發(fā)展新一代功率電子器件的優(yōu)選材料。制成的SiC、GaN基功率電子器件具有關(guān)態(tài)耐壓高、通態(tài)比電阻低、工作頻率高等優(yōu)勢(shì),是一類(lèi)開(kāi)關(guān)損耗小和耐高溫工作能力強(qiáng)的新一代功率電子器件。例如,碳化硅器件在低擊穿電壓(約50V)下,比導(dǎo)通電阻僅有1.12μΩ,約是同類(lèi)硅器件的1/100 ;在高擊穿電壓(約5kV)下,比導(dǎo)通電阻提高到25.9mΩ,卻約是同類(lèi)硅器件的1/300。更低的導(dǎo)通電阻使得碳化硅電力電子器件具有更小的導(dǎo)通損耗,從而能獲得更高的整機(jī)效率。碳化硅器件的極限工作溫度有望達(dá)到600℃以上,硅器件的最大結(jié)溫僅為150℃,而且碳化硅器件抗輻射能力較強(qiáng),在航空等領(lǐng)域應(yīng)用可以減輕輻射屏蔽設(shè)備的重量。
 
  基于SiC、GaN材料各自的特點(diǎn),SiC器件與GaN器件在功率電子領(lǐng)域各有應(yīng)用優(yōu)勢(shì):SiC 主要適合用于大電力領(lǐng)域(千伏以上),GaN 適合用于低電力(千伏以下)、轉(zhuǎn)換速度較快領(lǐng)域和替代現(xiàn)有的Si功率器件的廣闊領(lǐng)域。GaN功率器件與Si的IGBT和MOSFET相比,電能損耗較小且可實(shí)現(xiàn)小型化,可廣泛用于功率因子校正、電機(jī)驅(qū)動(dòng),以及空調(diào)和電磁爐等家電產(chǎn)品。SiC功率器件可用于混合動(dòng)力汽車(chē)和純電動(dòng)汽車(chē)的逆變器、太陽(yáng)能發(fā)電系統(tǒng)中的功率調(diào)節(jié)器,以及工業(yè)設(shè)備中使用的輸出功率為數(shù)千瓦~數(shù)十千瓦的電力轉(zhuǎn)換器等廣闊領(lǐng)域,近來(lái)受到業(yè)界的關(guān)注。
 
  可見(jiàn),寬帶隙功率電子技術(shù)具有功率密度大、電流強(qiáng)、頻率高、功耗低和高溫度極限的特點(diǎn),能滿(mǎn)足當(dāng)代科學(xué)技術(shù)和工業(yè)社會(huì)發(fā)展的需求,以及新時(shí)代、新環(huán)境的要求。但與成熟的Si 相比,SiC和GaN屬發(fā)展中的新興材料。發(fā)展寬帶隙功率電子技術(shù)無(wú)論在材料、器件方面都還面臨嚴(yán)峻的挑戰(zhàn),材料襯底、器件性能、制造成本三者密切相關(guān),必須從應(yīng)用需求出發(fā),做統(tǒng)籌決策。
 
 ?。ㄈ┭趸锇雽?dǎo)體TFT 技術(shù)--引領(lǐng)LED背光液晶顯示技術(shù)新發(fā)展
 
  平板顯示是人機(jī)聯(lián)系和信息展示的窗口,對(duì)現(xiàn)代信息技術(shù)的發(fā)展具有十分重要的意義。平板顯示技術(shù)發(fā)展日新月異,TFT-LCD是目前平板顯示應(yīng)用的主流技術(shù)。近年來(lái),以iPhone和iPad為先導(dǎo)的智能手機(jī)和平板電腦的問(wèn)世,引發(fā)智能移動(dòng)終端技術(shù)迅猛發(fā)展,從簡(jiǎn)單的通話(huà)工具變?yōu)橐粋€(gè)綜合信息處理平臺(tái),幾乎任何信息功能的需求都可通過(guò)互聯(lián)網(wǎng)轉(zhuǎn)移到智能移動(dòng)終端上完成。因此,發(fā)展超低功耗、超高分辨和超快響應(yīng)的顯示技術(shù),顯得日益重要。這為平板顯示技術(shù)發(fā)展帶來(lái)了新機(jī)遇,同時(shí)TFT-LCD顯示技術(shù)又面臨新的嚴(yán)峻挑戰(zhàn)。
 
  銦鎵鋅氧化物(IGZO)是一種新型寬禁帶半導(dǎo)體材料,近年來(lái)被成功地應(yīng)用在LED背光液晶顯示的TFT驅(qū)動(dòng)技術(shù)上,有望給LED背光的液晶顯示技術(shù)帶來(lái)一場(chǎng)新變革。IGZO-TFT背板相比當(dāng)前主流的α-Si TFT背板,具有以下系列優(yōu)點(diǎn):(1)IGZO材料的電子遷移率是α-Si材料的20~50倍以上,可顯著提升像素的開(kāi)口率,提高背光利用率;(2)采用柵源極布線細(xì)化技術(shù),TFT面積可降低到α-SiTFT面積的1/4 ;背板的分辨率可達(dá)α-Si背板的2倍以上,且響應(yīng)速度快,具備實(shí)現(xiàn)大容量信息處理的能力;(3)由于漏電流極低(可小于1pA),可通過(guò)減少顯示刷新頻率,來(lái)大幅降低顯示屏的功耗,并顯著提高觸控性。例如:IGZO-TFT背板的靜態(tài)畫(huà)面刷新頻率可由現(xiàn)行的30~50Hz減少到2~5Hz, 相應(yīng)耗電量是α-SiTFT背板的1/10~1/5;(4)IGZO 材料寬禁帶寬度大于3.0eV,全透明,對(duì)可見(jiàn)光不敏感,能進(jìn)一步增加開(kāi)口率,提高顯示亮度,降低背光功耗;(5)IGZO-TFT工藝與α-Si TFT技術(shù)兼容性好,可利用現(xiàn)有的高世代面板生產(chǎn)線進(jìn)行轉(zhuǎn)產(chǎn)。因此,IGZO-TFT背板具有超高清(UHD)、超低功耗和較低成本的特點(diǎn)。
 
  IGZO-TFT有望取代目前的α-Si TFT成為新一代LED背光液晶顯示驅(qū)動(dòng)技術(shù),即IGZO-TFT LED液晶顯示技術(shù)(簡(jiǎn)稱(chēng)IGZO-TFT背板技術(shù)),將廣泛應(yīng)用于電視、智能手機(jī)和平板電腦等各種顯示和智能移動(dòng)終端設(shè)備。IGZO-TFT背板技術(shù)的最大優(yōu)勢(shì)在于低功耗,其顯示屏的能耗與目前最先進(jìn)的α-Si或低溫poly-Si液晶屏相比,至少要低50%以上。對(duì)于iPad等個(gè)人平板電腦和iPhone等智能移動(dòng)終端,在平均工作負(fù)載下,系統(tǒng)(CPU+硬盤(pán)等)的能耗和顯示(背光+驅(qū)動(dòng)等)的能耗比例約為1∶1;這樣算來(lái),如能使用IGZOTFT背板技術(shù),個(gè)人平板電腦將節(jié)能25%以上,這對(duì)iPad等靠電池工作的移動(dòng)便攜設(shè)備來(lái)說(shuō)意義就更大。此外,IGZO-TFT 驅(qū)動(dòng)技術(shù)還有望用于有源矩陣OLED(AMOLED)面板,可實(shí)現(xiàn)無(wú)需LED 背光的超低功耗、高響應(yīng)速度、高對(duì)比度、廣視角和柔性的顯示屏技術(shù)。還有,IGZO還被研究在大面積玻璃上制備廉價(jià)的存儲(chǔ)器和邏輯電路,為未來(lái)實(shí)現(xiàn)低成本的智能化玻璃面板(system on glass)提供了新的技術(shù)途徑。
 
  由于IGZO-TFT背板技術(shù)具有如上所述的諸多優(yōu)點(diǎn),成為近年來(lái)國(guó)際上的研發(fā)熱點(diǎn),但也面臨嚴(yán)峻技術(shù)挑戰(zhàn):IGZO材料尚處于發(fā)展初期,還存在許多基本問(wèn)題沒(méi)有得到解決,如非晶IGZO 薄膜中存在很高的缺陷態(tài)密度,界面問(wèn)題復(fù)雜,嚴(yán)重影響α-IGZO TFT器件的穩(wěn)定性和可靠性;另外,IGZO-TFT技術(shù)的產(chǎn)業(yè)化還不夠成熟,尚待研究開(kāi)發(fā),目前國(guó)際上只有少數(shù)幾家公司做得相對(duì)較好。
 
  三、結(jié)束語(yǔ)
 
  第三代半導(dǎo)體材料作為繼第一代鍺、硅元素半導(dǎo)體和第二代以GaAs、InP為代表的化合物半導(dǎo)體之后發(fā)展起來(lái)的新興半導(dǎo)體材料,已經(jīng)展現(xiàn)出極其重要和具有戰(zhàn)略性的應(yīng)用價(jià)值,有望突破第一、二代半導(dǎo)體材料應(yīng)用技術(shù)的一些發(fā)展瓶頸,創(chuàng)新開(kāi)拓時(shí)代需求的新技術(shù)領(lǐng)域,不僅在信息領(lǐng)域而且進(jìn)入到能源領(lǐng)域發(fā)揮極為重要的作用。但第三代半導(dǎo)體材料尚屬發(fā)展中的新興材料,面對(duì)高度發(fā)展的信息社會(huì)和工業(yè)、經(jīng)濟(jì)社會(huì)日新月異的應(yīng)用需求,第三代半導(dǎo)體材料必將在應(yīng)用中發(fā)展、成熟,與第一代、第二代半導(dǎo)體材料形成優(yōu)勢(shì)互補(bǔ),為本世紀(jì)技術(shù)、工業(yè)和社會(huì)的發(fā)展做出重要貢獻(xiàn)。
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